Zobrazení položek podle značky: užitný vzor
Nové technické řešení vyvinuté v Centru polymerních systémů Univerzity Tomáše Bati ve Zlíně spočívá v topné nebo také chladící laboratorní ploše s rovnoměrným rozváděním či odváděním tepla s využitím maloplošného zdroje, Peltierova článku. Navržené zařízení lze využít pro vývoj nových materiálů i optimalizaci stávajících výrobních procesů.
Ve třetím díle seriálu Úřadu průmyslového vlastnictví se zaměříme na dva základní druhy právní ochrany technických řešení – patent a užitný vzor a jejich hlavní rozdíly.
Seminář: Databáze Espacenet
Úřad průmyslového vlastnictví pořádá v rámci podpory mezinárodní konkurenceschopnosti České republiky pro zájemce z řad podnikatelů, pracovníků výzkumu a vývoje, studentů i širší veřejnosti seminář zaměřený na podrobné seznámení s celosvětovou
patentovou databází Evropského patentového úřadu Espacenet.
Úřad průmyslového vlastnictví pořádá v rámci podpory mezinárodní konkurenceschopnosti České republiky pro zájemce z řad podnikatelů, pracovníků výzkumu a vývoje, studentů i širší veřejnosti seminář zaměřený na podrobné seznámení s národní databází patentů a užitných vzorů a úvod do celosvětové patentové databáze Evropského patentového úřadu Espacenet.
Výzkum a vývoj jsou bytostně spjaty s vytvářením nehmotných statků, tedy i s duševním vlastnictvím. Do této oblasti spadají otázky autorskoprávní a průmyslověprávní povahy, které sice mají i některé shodné stránky, ale v řadě pohledů jsou založeny na odlišných principech. V obou případech jde o práva k výsledkům tvůrčí činnosti, kterých je schopen pouze člověk.
Úřad průmyslového vlastnictví pořádá v rámci podpory mezinárodní konkurenceschopnosti České republiky pro zájemce z řad podnikatelů, pracovníků výzkumu a vývoje, studentů i širší veřejnosti seminář zaměřený na podrobné seznámení s národní databází patentů a užitných vzorů a úvod do celosvětové patentové databáze Evropského patentového úřadu Espacenet.
Užitné vzory
Užitný vzor se v mnohém podobá ochraně patentové, ale v mnohém se také liší. Umožňuje velmi rychlou výlučnou ochranu technických řešení s nízkými finančními náklady.